PBN – 专为严苛的高温和高纯度应用而设计
热解氮化硼 (PBN) 是一种超高纯度的氮化硼，通过化学气相沉积 (CVD) 工艺生长，形成具有独特结构的固体。PBN 具有出色的纯度和稳定性，非常适合需要耐高温和无污染环境的应用。PBN 可提供厚度最高达 3 毫米的平板或定制形状，广泛用于半导体和分子束外延应用，包括精密坩埚。
PBN 的技术特性
| 材质结构 | 最高工作温度 (ºC) | 密度 (g/cm3) | 抗弯强度（室温）(MPa) | 抗压强度 (MPa) | C.T.E (20ºC-1000ºC x 10-6) | 导热度 (W/m*k) | 介电强度 (KV/mm) | 体积电阻率（欧姆*厘米） | |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| PBN | – | 850 空气， 2000 惰性 | 1.9 - 2.1 | 115 | – | 15.5 "c" 3.0 "a" (-40-150 ºC) | 1.6 "c" | 230 "c" | 1015 |
产品特性
- 超高纯度固体氮化硼
- 通过化学气相沉积 (CVD) 生长
- 可由平板或定制形状加工而成
- 在高温和高真空环境中稳定
优点
- 无与伦比的纯度和结构一致性
- 非常适合对杂质含量要求苛刻的应用
- 可定制形状，适合特殊用途
- 耐受极端温度和真空条件
PBN 的应用
- MBE（分子束外延）坩埚和设备
- 用于高纯度环境的电绝缘体
- 真空炉隔热
- 用于 LEC（液封 Czochralski）和 VGF（垂直梯度凝固）晶体生长的坩埚和组件
- 加热元件支架
